工作原理：UV光解設(shè)備利用高能臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生O₃；O₃與呈游離狀態(tài)污染物質(zhì)原子聚合，生成新的、無(wú)害或低害物質(zhì)，如CO₂、H₂O等。同時(shí)在污染體中投加一定量的光敏半導(dǎo)體材料，結(jié)合一定量的光輻射，使光敏半導(dǎo)體在光的照射下激發(fā)產(chǎn)生電子空穴對(duì)，吸附在半導(dǎo)體上的溶解氫、水分子等與電子空穴作用，產(chǎn)生氧化性極強(qiáng)的自由基，再通過(guò)與污染物之間的羥基加和、取代、電子轉(zhuǎn)移等式污染物全部或接近全部氧化。
       作用過(guò)程：刺激性氣味氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到UV光解凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同裂解、氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外。
       UV光解設(shè)備特點(diǎn)：UV光解設(shè)備利用特定的高能臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體物質(zhì)分子鍵，裂解刺激性臭味氣體物質(zhì)，如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H₂S、VOC類(lèi)，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，在半導(dǎo)體催化劑的作用下，使成游離狀態(tài)的污染物原子與臭氧氧化聚合成小分子無(wú)害或低害物質(zhì)，如CO₂、H₂O等。利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸，再通過(guò)臭氧，在半導(dǎo)體催化劑的作用下，進(jìn)行催化氧化反應(yīng)，徹底達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。
uv光解設(shè)備性能：
1.高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類(lèi)等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率高。
2.適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)高濃度、大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭進(jìn)化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。
3.運(yùn)行成本低：uv光解設(shè)備無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音，無(wú)需專(zhuān)人管理和日常維護(hù)，只需做定期檢查，uv光解設(shè)備能耗低，風(fēng)阻低，可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。
4.無(wú)需溫濕度處理：惡臭氣體無(wú)需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在-30℃—95℃之間，濕度在40%~98%之間均可正常工作。
5.uv光解設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場(chǎng)地狹小等特殊條件。
6.優(yōu)質(zhì)材料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定，使用壽命長(zhǎng)。
UV光解設(shè)備不僅適用于噴漆房，還適用于各類(lèi)化工企業(yè)，包括醫(yī)療、橡膠、印刷、食品、化工企業(yè)污水站等。歡迎有需要的廠家與重慶科杰環(huán)保設(shè)備聯(lián)系，歡迎到廠實(shí)地洽談考察。